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      微調45納米工藝,臺積電公布40納米工藝藍圖
      
             
      發布日期：2022-07-14                  點擊率：87   
      
         
      
         
      
            前披露了其第一個40納米生產工藝技術,并稱之為“半節點”(half node ),并且表示將在未來三個月內用這種技術生產出第一批晶圓產品。
      SRAM芯片單元,芯片尺寸可縮小到平方微米。臺積電稱,通過從45納米向40納米的過渡,電源消耗將減少15%。此外,新的40納米節點顯然能夠讓LP芯片和G芯片提供比65納米工藝高倍的芯片閘密度。

               
      
         
      
             
      
              
              
              
              
              
              
            
      
            

            
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