在真空技術中，“烘烤”術語是指真空系統運轉過程中，將真空系統或系統中某一部件加熱升溫烘烤一段時間，烘烤階段中系統內材料解析的氣體用真空泵抽除，結束烘烤后再降到室溫，從而縮短抽氣時間，加快到達規定的真空度。此外，高溫烘烤還可以清除部件表面油脂等的污染物。

    無論是金屬還是玻璃系統，不對系統內材料進行除氣，室溫下要獲得10^-6Pa以上的超高真空，需要幾天甚至數周連續不斷地抽氣才能到達。為縮短獲得超高真空的運轉時間，最簡單有效的方法就是對容器進行“烘烤”除氣，此外還可以采用離子轟擊除氣、光除氣和輻射除氣等手段，降低材料的出氣速率。

    離子轟擊除氣多用于真空規管、小型真空容器或工件的除氣，系統中的測量規管在測量前也應進行離子轟擊除氣，用以減少規管出氣引起的測量誤差。而光除氣、輻射除氣不僅效果差，還受到各種條件的限制，除一些特殊裝置外，很少應用。

(慧樸科技，huiputech)